连续退火炉气氛控制微量氧分析仪露点仪和氢气分析仪用进口ADEV品牌
连续退火炉广泛应用于化工、石油、食品、冶金、机械、轻工、电力、船舶、造纸、矿山、医药、集中供热等工业部门。随着社会生产力的发展，其在各行业中的应用越来越广泛。退火炉是在半导体器件制造中使用的一种工艺，其包括加热多个半导体晶片以影响其电性能。热处理是针对不同的效果而设计的。可以加热晶片以激活掺杂剂，将薄膜转换成薄膜或将薄膜转换成晶片衬底界面，使致密沉积的薄膜，改变生长的薄膜的状态，修复注入的损伤，移动掺杂剂或将掺杂剂从一个薄膜转移到另一个薄膜或从薄膜进入晶圆衬底。连续退火炉气氛控制微量氧分析仪露点仪和氢气分析仪用进口ADEV品牌，其他产品：微量氧分析仪,药品残氧仪,露点仪,热导气体分析仪,GE流量计,OX-1氧传感器,顶空分析仪,红外气体分析仪,高温湿度仪,西门子U23分析仪,ppb微量水分析仪,OXY.IQ氧分析仪,烟气湿度仪,燃气热值仪,Kaye温度验证仪,L&W白度,仪激光氧分析仪,压缩空气露点仪,干燥机露点仪,激光气体分析仪,便携式露点仪,便携式微量氧分析仪
热处理时，与工件直接接触的介质或气氛主要有液休介质和气体介质两大类。
退火炉液体介质包括盐浴、碱浴和金属浴等，通常为中性的，即基本上不改变工件表面成份。
气体介质主耍有两大类，一是空气，它是含有78%N2，21%O2和1%其它气体的天然气体。在空气中加热，往往会产生工件表面氧化脱碳现象。采用一定的方法使退火炉炉内的空气稀薄到一定程度之后，炉内即为真空。由于真空度可以人工调节和控制。连续退火炉气氛控制微量氧分析仪露点仪和氢气分析仪用进口ADEV品牌
因而，从另一个角度，真空也可以看作是一种可控气氛。这时，控制的不是气氛的种类面是气体的数量(有时，也向真空炉中充填其它气体用于化学热处理等)。另一类是可控气氛，根据本身的性质和用途，又可分为保护气氛和化学热处理用气氛。
退火炉保护加热金属不氧化脱碳的气氛称为保护气氛。在保护气氛的基础上加入相应的富化气，或者专门制备一定的气氛，即可供化学热处理之用。现代热处理炉大多采用可控气氛。本节主要介绍常用热处理可控气氛的制备和控制方法等。连续退火炉气氛控制微量氧分析仪露点仪和氢气分析仪用进口ADEV品牌
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