Tiger Optics氨气分析仪T-I Max NH3半导体洁净室中的应用
用于检测和连续监测半导体洁净室中氨（NH3）气载分子污染物（AMC）的下一代痕量气体分析仪
当在设备*终测试阶段发现灾难性的产品性能或产量损失时，您可以花很长时间“寻找”空气中的分子污染物（AMC）；或者，您可以部署Tiger Optics的T-I Max NH3分析仪来定位和监控这些隐形缺陷发生器，这些缺陷发生器通常潜伏在设备、人员、晶片载体和洁净室隔间内及其周围。
在当今先进的半导体加工中，各种材料产生的残余气体、蒸汽和化学物质、加速的加工操作以及基板的存储和运输已成为一个关键问题。因此，国际半导体技术路线图（ITRS）现在强调AMC污染是实现和维持设备低缺陷率的关键技术挑战。Tiger Optics氨气分析仪T-I Max NH3半导体洁净室中的应用
基于Tiger新的全球平台，T-I Max NH3分析仪可以以****的灵敏度、选择性和响应速度组合来检测和持续监测NH3，特别关注AMC“化学污染”元素的主要贡献者。
Tiger Optics针对AMC的GO cart提供了一个移动平台，可以快速移动到不同的关键监控点，从而增加了额外的灵活性（参见PDF手册）。
Tiger Optics氨气分析仪T-I Max NH3半导体洁净室中的应用
基于Tiger Optics的新全球平台，T-I Max NH3空气分子污染物监测器（AMC）提供了****的性能，包括：
使用腔衰荡光谱（CRDS）的灵敏**测量技术
大大提高了响应速度和万亿次检测限Tiger Optics氨气分析仪T-I Max NH3半导体洁净室中的应用
无漂移，校准可追溯至世界**的参考实验室
*低拥有成本免维护
应用
分子污染物
研发
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