Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析仪在电子气半导体行业的应用
在半导体行业，对微量氧含量有着严格的要求。如果高纯氮气中的微量氧超标，会造成产品污染，影响产品质量，因此必须严格控制高纯氮气中的氧含量。在半导体工业中，为什么要用高纯氮气呢？
1.高纯氮在电子工业中的应用电子气是集成电路、光电子和微电子制造过程中不可缺少的基础支撑源材料，特别是VLSI、液晶显示器件、半导体发光器件和半导体材料，其中高纯氮具有诸多优点。
2.由于电子行业在生产过程中也会对环境造成一定的影响和破坏，电子行业迫切需要转型升级。在改进生产工艺的基础上，将对环境的影响降低到zui。电子工业氮气的纯度必须保持在99.999%以上，才能满足电子工业的生产标准。Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析仪在电子气半导体行业的应用
3.将高纯氮气应用于电子生产，不仅可以避免高温造成的材料浪费，还可以提高生产效率，保证零件的精度，延长零件的使用寿命。
高纯氮气在电子工业中的主要应用
1.在半导体和集成电路的制造生产过程中，需要高纯度的氮气来保护和清洁气氛，以保证半导体和集成电路的质量；
2.在半导体电池、电子合金材料等行业，高纯氮用于电子产品的封装、烧结、退火、还原和储存。
3.在大规模集成电路、彩色电视显像管、液晶和半导体元件的处理中，高纯氮被用作非常重要的氮源。高纯氮在单晶硅、多晶硅和一些外延行业的应用，不仅可以提高生产效率，还可以有效提高产品质量。
4.在电子行业磁性材料行业的成型中，需要经过喷砂、除水等步骤后放入充满高纯氮气的氮气室中。加热规定时间后，重复上述步骤，然后放入冷却通道中保护氮气室。待温度冷却至中温后，放入中温冷却室，直至完全冷却，即可输出功。
Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析仪在电子气半导体行业的应用
使用Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析仪测试半导体行业的微量氧含量已经形成了一定的认知。
DF31E专门设计用于工业气体应用中的**样气测量。它是下一代数字氧分析仪，集成了**的微量氧测量、新的图标菜单导航用户界面(GUI)和先进的数字通信。
参数:
**度:标准配置:**度
灵敏度:zui可检测的变化为3ppb，即ZD检测线为3ppb(310E-H0050M)。
响应时间:
测量范围:zui小0-0.5ppm，zui大0-25%。
工作温度:0-45℃
背景气体:基本传感器:被测背景气体可包括惰性气体和惰性气体，如N2、H2、一氧化碳、氟利昂、碳氢化合物等。
Stab-EL传感器选项:可中和微量酸性污染物，如CO2、H2S、Cl2、NOx、SOx等。
特点:
**触摸屏GUI界面，设置和操作直观简单。Servomex仕富梅DF-310E微量氧分析仪在电子气半导体行业的应用
兼容DF-310E平台的接线输入和气体接口。
顺磁传感器，可测量100%的样气。
可选的AquaXact氧化铝传感器可以同时监测O2和H2O。
支持数字通信，如RS232、RS485、Modbus、PROFIBUS和以太网Modbus TCP/IP。
应用领域:
空气分离装置
医用/工业气体
特殊气体分布
产品优势
DF31E专门设计用于工业气体应用中的**样气测量。它是下一代数字氧分析仪，集成了**的微量氧测量、新的图标菜单导航用户界面(GUI)和先进的数字通信。
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