日本Air Liquid在线微量氧分析仪在半导体超纯电子气体中ppb氧含量的应用
在半导体材料和电子器件的生产中，要使用H、N、O、Ar、he等高纯度气体，气体的纯度严重影响产品质量。诸如氢气、氮气以及它们所流经的系统中的水和氧气之类的气体对硅和III-V族化合物极其有害。在硅外延过程中，当氢气中的含水量达到100vpm时，硅外延层就会变成多晶。在MOS LSI的硅栅多晶膜工艺中，如果稀释气体中含有微量水分，多晶硅膜会被“氧化硅团”夹住，导致刻蚀多晶硅膜时多晶硅脱落，导致电性能恶化。因此，有必要监测和控制流经系统的高纯气体和微量氧气和水。
高纯气体是集成电路、光伏、光纤等行业的重要基础材料。在大规模集成电路芯片生产过程中，气体中的气态、液态和固态杂质会对芯片质量产生重要影响。由于气体中微量氧和水的存在，高温合成的半导体器件表面容易形成氧化膜，这是影响器件寿命和性能的重要因素。
日本Air Liquid在线微量氧分析仪在半导体超纯电子气体中ppb氧含量的应用
例如，外延生长是生产高质量集成电路的重要步骤，沉积层的杂质水平、厚度和微结构完整性取决于沉积工艺中所用气体的纯度。当气体中杂质过多时，外延层会形成“暗礁”，产生晶格缺陷等后果。因此，在半导体制造过程中，高灵敏度的气体检测显然是必要的。
目前可以将N、Ar、H体积气体中的杂质(包括水分氧气)控制在1ppb以下。为了进一步提高半导体工艺的质量，需要提高特殊气体的纯度，特别是降低其中的残留水分。现有的特种气体水分浓度测量装置主要有电容式、压电晶体振荡器式等。但由于特殊气体的反应性、腐蚀性和反应产物的累积性，测量装置的老化变化很明显。因此，传感器必须经常清洁，并在短时间内重新校准。特别是传感器吸水时，特殊气体溶解，无法进行精密准确的测量。微量氧分析仪采用的电化学及库伦法及赫兹电化学方法，本文介绍日本液空公司的ppb微量氧分析仪测试精度是0.5ppb,测试范围0-10ppb,0-10000ppb.它是为了满足近年来半导体工业对高纯气体日益增长的需求而开发的。估计对半导体、制药、新陶瓷等行业的气体用户和气体制造商的质量管理会有很大的提升。该分析仪可以测量氮气、氩气、氦气和氢气中的微量氧气，其*低检测灵敏度从以前产品的50ppb大大提高到0.5ppb
日本Air Liquid在线微量氧分析仪在半导体超纯电子气体中ppb氧含量的应用
半导体芯片在200~350℃的惰性气体(N2 \氩气)气氛中退火。日本液空在线微量氧分析仪分，可测量半导体行业保护气氛中ppb级微量氧含量，精度是0.5ppb.
日本液空在线微量氧分析仪的应用:
-半导体高纯电气体
-石化、电力-化学反应分析
-空气分离中高纯氧和微量氧的监测-空气分离和液化
-冶金、半导体、航空航天和**工业-核燃料处理和同位素分离
-制氢、制氮、净化和干燥设备-纯气态烃的流路监控日本Air Liquid在线微量氧分析仪在半导体超纯电子气体中ppb氧含量的应用
-可燃液体保护气体层的主要液体供给和检测
-气态单体的工艺分析:氯乙烯、丙烯、丁二烯、乙烯、橡胶、叔丁胺等
日本液空ppb在线氧气分析仪0-10ppb参数:
精度:+-0.5ppb
可选范围:
0-10ppb,0-10000ppb
更多日本Air Liquid在线微量氧分析仪在半导体超纯电子气体中ppb氧含量的应用信息请直接致电埃登威上海公司13482246053。
