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半导体特气高纯氮气氩气气体纯化器厂家选型使用寿命是否可以再生

半导体生产对大宗气体指标的要求

散装气体，如氮气、氢气、氧气、氩气、氦气等。广泛应用于半导体芯片生产的各种工艺中，起到保护气氛、输送特殊气体、参与反应等作用。对气体纯度的要求极高。
气体中的氧、水、总烃等杂质在生产过程中可能以原子的形式进入芯片结构，影响芯片质量。
●影响半导体空穴和自由电子的数量。
●影响晶圆的强度。
●影响光刻精度和元件电压的承受能力。
●固体颗粒会损坏产品表面。半导体特气高纯氮气氩气气体纯化器厂家选型使用寿命是否可以再生

低浓度杂质会导致合格频率降低，高浓度杂质可能导致批量产品报废、设备损坏和**事故。
■半导体工业要求的大宗气体纯度应达到99.999999% (9N)以上，即除大宗气体外，还应含有其他有害气体杂质，如H2O、O2、CO、CO2、CH4、THC等。应该达到小于1 ppb的水平。

气体纯化该产品可为晶体生长、外延、氧化、扩散、CVD、MOCVD、PECVD等多种半导体工艺设备提供超高纯度的工艺气体。也可用于生产超高纯气体和电子气体，以及低浓度标准气体和混合气体的制备。用于TIG轨道焊机氩气的净化和超高纯气体管道施工中氮气的检查和吹扫；也可用于净化超微量水氧分析仪、气相色谱仪(GC)、大气压离子质谱仪(APIMS)等各种气体分析仪器中的载气或零点气体。半导体特气高纯氮气氩气气体纯化器厂家选型使用寿命是否可以再生
■特殊的先进半导体工艺(如14纳米及以上)需要单一杂质。
■大规模工业生产的气体纯度通常为99.999%，其中杂质含量一般在ppm级别。只有通过净化器提高气体纯度，才能满足燃气行业的需求。

半导体特气纯化器可以选择GC系列：

GC系列产品选型表

产品系列	GC Pure Plus	GC Pure	GC Fire
典型气体类型*	N2、Ar、He等	N2、Ar、He、H2等	含氧气体
流量范围	500sccm	500sccm	1slm
压力范围	1.0MPa	1.0MPa	1.0MPa
颗粒过滤器	1μm	1μm	1μm
*大功率	165W	105W	105W半导体特气高纯氮气氩气气体纯化器厂家选型使用寿命是否可以再生
工作功率	70W	50W	50W
纯化技术	Getter	Getter	Heating Catalyst
再生方式	****	****	无需再生