半导体级硅材料及部件生产工艺实验室ADEV便携式微量氧分析仪应用
硅晶片的制备过程从硅单晶棒开始，以清洁的抛光晶片结束，因此可以在优良的环境中使用。在此期间，从一根单晶硅棒到几片能满足特殊要求的硅片，需要经过许多工序和清洗步骤。除了很多工艺步骤，整个过程几乎都是在无尘环境下进行的。所有的步骤可以归纳为三大类:它可以纠正物理属性，如大小，形状，平整度，或一些材料。
半导体行业是一个巨大的全球性行业，每年都在保持增长，这意味着对高纯气体的需求将会增加。硅材料及部件的需求也是日益增长。拥有可靠的高纯度气体供应对于半导体制造至关重要，尤其是在智能手机和无人驾驶汽车等先进技术领域。生产集成电路的过程是复杂的，在所有阶段需要30多种不同的气体，这使得气体的使用范围成为任何行业中*广泛的气体之一。它是气体半导体制造的重要组成部分，因为气体可以产生塑造半导体电特性所需的化学反应。由于其复杂性，在制造过程的每个阶段中使用的气体需要**和准确，以便正确地配置半导体。半导体级硅材料及部件生产工艺实验室ADEV便携式微量氧分析仪应用
随着半导体工业的不断发展，工艺中使用的气体也在发展。使用的一些核心气体包括氮气、氧气、氩气和氢气。我们将深入讨论他们在制造过程中的角色。
当你仔细观察时，我们每天使用的几乎所有电子设备都包含某种半导体，而氮是产生它们的关键成分。自上世纪中叶以来，气体一直是电子行业的重中之重，当时*早的商用晶体管和电路开始大规模生产。如今，有几个因素正在推动天然气的消费，但*值得注意的是为满足大型经济体的需求而部署的大规模半导体制造厂。
由于许多原因，气体是技术领域的理想元素-它们易于储存，易于现场生产，并且易于通过简单廉价的管道将高质量的氮气运输到整个设施的多个使用点。另外，很容易在分子水平上控制气体的化学反应。因此，氮气系统已经成为半导体制造的普遍选择。
那么测量氮气的纯度就非常重要了，这里我们介绍ADEV的一款便携式微量氧分析仪。
ADEV便携式微量氧分析仪
型号：G9600
简单介绍半导体级硅材料及部件生产工艺实验室ADEV便携式微量氧分析仪应用
G9600微量氧分析仪技术规格:
精度：<1%满量程
范围： 0-1,0-10,0-100，0-1000ppm 1%，或25%自动切换
应用：对惰性气体，碳氢气体，He，H2，CO2中的氧含量进行10ppb-10000ppm分析。
*储存：具有数据储存功能，可存储10000个数据
*输出：RS485
标定：使用浓度大约为80%量程或更高的经过认证的标准气体
补偿：温度
接口：1/8”接头
控制：旁边不锈钢开关键，正面功能键，屏幕开关键。
外观：155*300*340
流量影响：0.25-2.5 L/M,推荐流量:1 L/M
压力：0.2-1公斤；排空-大气压
电源：可充电电池，单电池可持续60天，开泵1天（内置泵为可选部件）
恢复时间：在空气中暴露60秒钟，用氮气恢复至10ppm的时间为20分钟
响应时间：90%满量程为10秒半导体级硅材料及部件生产工艺实验室ADEV便携式微量氧分析仪应用
采样系统：流量控和样气/旁四通阀，流量指示
灵敏度：<0.5%满量程
传感器型号：S8201，免维护
传感器寿命：24个月，25℃，平均O2<100 ppm
温度范围：0-45℃
质保期：12个月
样气接触部分：不锈钢
可选件：
内置取样泵
便携箱
过滤器
CO2专用传感器
H2S专用酸性传感器
碱罐
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