超高纯气体在半导体生产过程中CQC系统该如何选择和配置
气体是半导体制造过程中的一个重要组成部分，我们用气体来产生塑造半导体电气特性所需的化学反应。由于气体系统的复杂性，所使用的气体在制造过程中的每一个阶段都需要精准，来配置半导体生产工艺。
目前随着半导体行业的不断发展和演变，在这个过程中使用的高纯气体也在不断增加。使用的一些主要气体包括氮气N2、氧气O2、氩气Ar和氢气H2.超高纯气体在半导体生产过程中CQC系统该如何选择和配置
由于超高纯气体在半导体生产过程中没有办法少，气体的品质及气体的稳定性变的非常重要. CQC系统也由此诞生。CQC系统主要是由气体的微量水分分析仪PPB和PPT级别，微量氧分析仪ppb级别和PPT级别，颗粒分析仪以及气象色谱分析仪组成，针对高纯气体中的水分, 氧分, 固体颗粒物，碳氧化合物，碳氢化合物，氮, 氢等杂质气体的含量进行实时测量和监控。目前，半导体行业常用的仪器品牌有Tigeroptics/光能科技水分仪，日本液空微量氧分析仪/Servomex氧分仪，PEAK气相色谱仪，PMS/Accudevice颗粒仪等品牌，这些品牌目前是半导体行业中很主流的CQC设备品牌。超高纯气体在半导体生产过程中CQC系统该如何选择和配置
CQC系统主要由气体的水分分析仪，氧分分析仪，颗粒分析仪和气相色谱仪组成，针对气体中的水分，氧分，固体颗粒物，碳氧化合物，碳氢化合物，氮，氢等杂质气体的含量进行测量监控。
半导体和LED制造商们依靠超高纯度的工艺气体，如氨和磷化氢来制造高科技产品，如智能手机、LED电视和灯泡，以及消费者很需要的CPU和内存芯片。这类关键气体中的残留水分会降低设备的性能，降低产量，并可能对产品和企业盈利能力产生负面影响。光能科技水分分析仪的设计目的是为用户提供一个简单的经济有效的紧凑的微量水分析仪，以确保微量的水分在NH3, PH3和AsH3气体中在要求的规格内。该仪器采用了**压力控制器，光纤衰荡技术。
日本液空ppb在线氧气分析仪0-10ppb参数:精度:+-0.5ppb可选范围:0-10ppb,0-10000ppb。超高纯气体在半导体生产过程中CQC系统该如何选择和配置
所有 CQC 仪器柜都配置有各分析仪器所需硬件，即仪器机柜、管件、阀件、氢气泄漏侦测器、零点纯化器、过滤器等。样气、标气、仪表气、辅助气等气路衔接口均设置于仪器柜上方，并于各仪器机柜上方设置有 4”负压抽风口。所需管路，阀件，辅助件均为 EP 级，并遵照客户所规定品牌供应商;管路焊接均采用自动焊接， 以符合超高纯气体使用要求。
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