ADEV微量氧分析仪在半导体热处理设备加热炉中的应用
在半导体的制造过程中，加热炉是不可或缺的关键设备之一。而在半导体加热炉中，控制炉内气氛中的氧含量是至关重要的。这是因为，硅片在传输过程中以及升降舟（进出反应室）前后过程中，会受到设备内部气氛中氧分子的影响，导致非必要氧化层的产生，进而降低硅片的品质甚至出现报废现象。为了应对这一问题，通常需要采取氧气分析仪和气体质量流量控制器来闭环控制和降低设备内部气氛中的含氧量。
ADEV微量氧分析仪作为一种高精度的气体分析仪器，能够实时测量和监控炉内气氛中的氧含量。该仪器采用电化学传感器技术，具有灵敏度高、响应速度快、稳定性好和抗干扰能力强等优点。通过将ADEV微量氧分析仪与气体质量流量控制器联合使用，可以更加**地控制炉内气氛中的含氧量，进而减少非必要氧化层的产生，提高硅片的品质。ADEV微量氧分析仪在半导体热处理设备加热炉中的应用
为了确保微氧控制过程中气氛压力的可靠运行，并避免超出**范围，我们一般采用基于PLC的闭环控制模型来控制气氛中的压力。该模型能够实时监测炉内压力和含氧量，并通过自动调节气体流量和压力，将炉内气氛控制在*佳的工艺参数范围内。此外，PLC闭环控制模型还可以将实际工艺参数与预设参数进行比较，并通过PID算法自动调整气体流量和压力，以实现炉内气氛的**控制。
ADEV G1501微量氧分析仪的技术参数
ADEV G1501微量氧分析仪是一款采用电化学传感器技术的精密仪器，能够实现对0~10/100/1000ppm范围内氧气的测量。以下是该仪器的主要技术参数：
原理：电化学传感器技术
量程：0~10/100/1000ppm
分辨率：量程的0.1%
准确度：量程的1%（常温常压）ADEV微量氧分析仪在半导体热处理设备加热炉中的应用
线性度：R平方值>0.995
校准气：高纯氮
响应时间：≤30秒
恢复时间：≤60秒
传感器预期寿命：≥24个月（典型）
操作条件：温度：-20~+50℃；湿度：≤95%RH；避免强电磁干扰
应用域：半导体、空分、特气行业等
测量介质：H 2、He、碳氢化合物等，不适用硫化氢、氨气等腐蚀性气体
接口：1/4”或1/8”卡套接头ADEV微量氧分析仪在半导体热处理设备加热炉中的应用
压力：≤3bar（推荐值为2bar）
温度：-20~+50℃（推荐值为室温~40℃）
流量：1~3 SCFH，推荐值为2 SCFH
电器特征
接口：USB接口，用于实现远端控制功能
功能特点：自动切换量程、自动存储数据
报警和系统设置了双路继电器，同时也支持自动压力和温度补偿功能，设置了防水按键等便捷功能
电源AC/DC：12VDC，*大工作电流为6A，具有防反接功能
显示：大屏幕液晶显示，可同时显示测量值、单位、电池电量等
智能性：内置数据存储器，可存储*近10次的测量数据，并可查看测量历史记录
输出：继电器接点输出（SPDT），信号容量为AC 22V/3A
报：提供一路独立的可编程报警触点，用户可自由设置报警触发条件、输出类型和输出时间等参数
补偿：内置温度和压力自动补偿功能，可对测量结果进行自动补偿修正
输出：4-20mA电流信号输出，可远程连接PLC等数据采集系统
电源：内置高性能锂电池供电，电池寿命长达5年，也可选择外接电源适配器供电
样气系统：配备快速吹扫系统，包括保护性四通阀、流量控制阀和流量计等，可实现样气的快速采集与排放
物理特征
封装材质：氧化铝材质
体积：190 x 274 x 315mm
开孔尺寸：178 x 223mm
重量：约5Kg
ADEV G1501微量氧分析仪是一款功能**、性能稳定、使用方便的微量氧分析仪，适用于各种应用领域，特别是在半导体、空分、特气行业等领域具有广泛的应用。它不仅具有高精度的测量能力，还具备智能化的数据处理和输出功能，使用户能够更加方便地获得准确的测量结果。
总之，ADEV微量氧分析仪在半导体加热炉中起着至关重要的作用。通过实时监测炉内气氛中的氧含量和压力，并采用适当的控制策略，可以确保微氧控制良好情况下压力系统的可靠运行。同时，采用PLC闭环控制模型还可以实现气氛的**控制，提高硅片的品质和生产效率。这些措施的采用，使得半导体制造过程中的加热炉能够更加稳定、高效地运行，进而提高了整个半导体制造过程的可靠性和生产效率。
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