影响ADEV氧分析仪因素及单晶硅氩气测量应用
一、影响氧分析仪测定的几个因素
氧分析仪是工业在线过程分析的重要仪表，其准确性受到多种因素的影响。以下为主要影响因素：
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泄漏：氧分析仪的严密性是其准确测量的前提。任何微小的泄漏都可能导致环境空气中的氧气渗入，导致测量结果偏高。初次启用前，仪器的严密性检查至关重要，而在使用过程中，也要注意各种连接点、焊点、阀门等的密封情况。
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污染：在氧分析仪的使用过程中，污染是一个需要关注的问题。重新使用时，必须确保连接氧分析仪的取样管路没有漏入空气，如果漏入空气，需要将漏入的空气吹除干净，以保护传感器的寿命。同时，管道系统的净化也非常关键，采用高压放气与小流量吹除交替进行的方式可以迅速净化氧分析仪管道。影响ADEV氧分析仪因素及单晶硅氩气测量应用
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管道材质的选择：管道材质及表面粗糙度也可能影响样气中氧含量的变化。例如，塑料管、橡胶管等不适合作为连接管路。一般来说，铜管或不锈钢管是更好的选择，而对于超微量分析，必须用抛光过的不锈钢管。
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气路系统的简化及洁净：微量分析要求尽可能减少气路上的各种管件、阀门、表头等中的死角对样气造成的污染。因此，气路系统应尽可能简化，并选择死角小的连接件。此外，应避免使用水封、油封等设备，防止溶解氧的逸出。
二、单晶硅氩气测量应用影响ADEV氧分析仪因素及单晶硅氩气测量应用
单晶硅生产中，氩气作为一种保护气体被广泛使用，其纯度要求极高。在单晶硅的生产过程中，氩气的纯度要求小于1.5ppm。为确保这一纯度要求，ADEV电化学氧分析仪被应用于测量中。
通过ADEV电化学氧分析仪的**测量，生产过程中的氩气纯度可以得到有效的监控，确保单晶硅的生产质量。此外，由于其高灵敏度和响应速度，ADEV氧分析仪能够实时反映氩气纯度的变化，为生产工艺的调整提供及时、准确的依据。影响ADEV氧分析仪因素及单晶硅氩气测量应用
总结：
要确保氧分析仪的准确测量，必须注意泄漏、污染、管道材质选择以及气路系统的简化与洁净等因素。而在单晶硅的生产中，ADEV电化学氧分析仪的应用为确保氩气的高纯度提供了有力支持。
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