四氢化硅中ADEV微量氧分析仪的应用|埃登威自动化系统设备(上海)有限公司

四氢化硅中ADEV微量氧分析仪的应用

甲硅烷,又名四氢化硅(SiH4),是一种硅烷,其结构与甲烷相似,呈正四面体结构。这种化合物广泛应用于电子工业、能源工业、玻璃工业、化学工业及高科技领域等多个行业和领域,主要用作生产液晶TFT、太阳能电池、半导体、感光体材料等。然而,甲硅烷的化学性质比烷烃活泼得多,极易被氧化,因此在其生产和应用过程中,对氧气含量的**监测至关重要。在这方面,ADEV的OxyTrend电化学氧分析仪发挥了重要作用。四氢化硅中ADEV微量氧分析仪的应用

OxyTrend是一款适用于**区域和危险区域应用的电化学氧分析仪,符合ATEX分类(1/21区)的标准。它具有高精度、耐用和高**性的特点,适用于ppm级别的微量氧气以及百分比级别的氧气含量的监测。这一特点使得OxyTrend非常适合在甲硅烷的生产和处理过程中使用,以确保产品质量和生产**。

甲硅烷的生产和储存需要严格的环境控制,以避免与强氧化剂、强碱和卤素接触。OxyTrend氧分析仪的宽应用范围使其能够满足这些严格的监测需求。其用户友好的设计和宽显示屏使得操作者可以轻松读取数据和操作所有数字功能,即使在危险区域也能实现完整的功能。此外,OxyTrend防爆氧气分析仪适用于室内和室外安装,其电子元件封装在铝外壳中,而传感器外壳为316不锈钢,具有直通式或可选的KF-40连接,使得其安装和维护都非常方便。四氢化硅中ADEV微量氧分析仪的应用

在甲硅烷的生产过程中,氧含量的监测不仅关乎产品质量,更直接关系到生产**。因为甲硅烷极易被氧化,与氧的反应异常激烈,即使在-180℃温度下也会猛烈反应。因此,使用OxyTrend这样的高精度、高**性的电化学氧分析仪是至关重要的。

OxyTrend氧气分析仪具有18个现场可设置的ppm微量或百分比范围,还可以设置从0.01 ppm到100%FS的自由可配置范围,从而能够满足甲硅烷生产过程中对氧气含量的**监测需求。传感器技术是OxyTrend氧分析仪的核心。ADEV氧传感器在其整个测量范围内提供高水平的准确性、可靠性和线性。这些传感器基于电偶电化学燃料电池原理制造,并在严格的质量程序下进行生产。它们是独立的,维护需求极少,无需清洁电极或添加电解液。四氢化硅中ADEV微量氧分析仪的应用

除了其在甲硅烷生产中的应用外,OxyTrend还广泛用于其他多个需要**监测氧气含量的行业和领域,如天然气及生物气体、手套箱及3D打印、退火炉、空气分离、氮气发生器及氢气发生器、纯气态烃流、化工及石化行业、钢铁及冶金行业等。

总的来说,ADEV的OxyTrend电化学氧分析仪在甲硅烷的生产和应用中发挥了至关重要的作用,其高精度、耐用和高**性的特点使其成为甲硅烷生产过程中不可或缺的工具。通过使用OxyTrend,可以确保甲硅烷生产和处理过程中的氧气含量得到**监测,从而保障产品质量和生产安 全。

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