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日本thermocera台式石墨烯

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产品名称: 日本thermocera台式石墨烯
产品型号: CNT合成器
产品展商: 其它品牌
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简单介绍

日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器
◉型号NanoCVD-8G（用于石墨烯合成）
◉型号NanoCVD-8N（用于碳纳米管）
无需使用大型制造设备，每批只需30分钟即可轻松实现石墨烯/ CNT合成。
CVD方法（化学气相沉积）
CVD法是已经为多种目的而建立的稳定技术，并且当考虑将来石墨烯和CNT的大规模合成时是现实的方法。


日本thermocera台式石墨烯  的详细介绍

日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器


 

特性

  • 日本thermocera台式石墨烯无需使用大型制造设备即可轻松进行石墨烯/ CNT（SWNT）成膜实验。
  • 每批仅30分钟！
  • 冷壁型高效，高精度的过程控制
  • 快速升温：RT→1100℃/约3分钟
  • 具有高精度温度流量控制和出色重现性的高性能机器
  • 操作简便！5英寸触摸屏可进行操作和配方管理
  • 多可以创建和保存30个配方，30个合成程序步骤
  • 软件为标准设备，输出为CSV文件在PC上记录数据
  • USB电缆连接，在PC端创建配方→可以上传到设备
 
     
     
 

日本thermocera台式石墨烯外型尺寸


 
     
     
 

主要规格

A.主要规格  
1.反应室  不锈钢SUS304泄漏检查
2.加热阶段  陶瓷制成
3.相应的样本量  20 x 40毫米
4.加热加热器  高纯石墨加热器Max1050℃
5.温度控制  K型热电偶标准附件（安装在加热台下）
   
B.日本thermocera台式石墨烯过程控制设备规格  
1.气体控制  质量流量控制器x 3（Ar，H2，CH4）
2.压力控制  20托FS
3.真空排气  包括爱德华兹旋转泵RV3（3立方米/小时）
4.操作面板  正面安装5英寸触摸屏（欧姆龙制造）
5.风冷  用冷却风扇冷却外壳内部
6.控制系统  PLC自动过程控制
   
C.软件（标准附件）  
1. nanoCVD软件  标配（已安装石墨烯的标准程序）
2.界面  USB 2.0连接
3.设置数  多30个配方，30个程序创建和保存步骤
   
D.气体导入连接规格  
1.工艺气体  1/4英寸世伟洛克卡套管接口，用于Ar，H2，CH4 x 3
2.载气  Φ6mm推锁式管接头，用于N2或Ar x 1
   
E.**装置  
1.过热  由加热台安装热电偶控制
2.机壳内部过热  从内部温度开关
3.气压异常  来自质量流量控制器
4.真空度降低  来自真空传感器
   
F.日本thermocera台式石墨烯实用程序  
电源  AC200V单相50 / 60Hz 13A
1.工艺气压  30psi 200sccm以下
2.载气压力  60-80磅/平方英寸
   
G.尺寸/重量  
1.尺寸  405mm（宽）x 415mm（深）x 280mm（高）
2.重量  约27公斤
 
     

nanoCVD-8G（石墨烯）

纳米CVD-8N（CNT）


带旋转泵的nanoCVD-8G

通过CVD化学气相沉积法在短时间内在金属基底催化剂（Cu，Ni箔等）上合成单层石墨烯膜。nanoCVD-8G的基本操作方案是在石墨平台上以醉高1100°C的高温烘烤，并在减压下供应原料气体（甲烷），氮气和氢气。

◇◆标准设备配置◆◇

  • ●用于石墨烯生成，真空过程控制
  • ●标配旋转泵（选件：TMP，扩散泵或干泵）
  • ● 3个供气系统（标准）
  • ●样品台大1100℃
  • ● K型热电偶


*日本thermocera台式石墨烯以下选项也可满足其他要求的实验目的（单独讨论）。

  • ●增加气体导入口（改变和增加气体种类）
  • ●增加干泵系统
  • ●增加额外的腔室/加热台并改变台结构

 


使用nanoCVD-8G样品加热台] [nanoCVD-8G后面板]生产的石墨烯的拉曼光谱


日本thermocera台式石墨烯/ CNT合成器

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