高温阶段“基板加热”1800℃

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产品名称: 高温阶段“基板加热”1800℃

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简单介绍

日本thermocera高温阶段“基板加热"1800℃
加热，板上/下板，板旋转，RF / DC板偏置
可以根据设备配置自由定制，Depo-Up和Down，定制板支架，板旋转/上/下/上/下，倾斜加热和反向溅射等各种功能都包含在该单元中。
各种加热丝：NiCr，石墨，CCC，Inconel，钨，钼，SiC / PBN / PG涂层，卤素灯和其他10种类型

高温阶段“基板加热”1800℃ 的详细介绍

日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃

可以根据设备配置自由定制，Depo-Up和Down，定制板支架，板旋转/上/下/上/下，倾斜加热和反向溅射等各种功能都包含在该单元中。
各种加热丝：NiCr，石墨，CCC，Inconel，钨，钼，SiC / PBN / PG涂层，卤素灯和其他10种类型

基板加热阶段需要加热阶段，例如垂直提升机构（基板支架和加热头中的一个或两个），基板旋转，RF / DC基板偏压（反向飞溅RF / DC清洁）和加热部分倾斜。它是具有多种功能的“多合一”组件。我们可以满足对半导体制造设备和各种真空设备（气相沉积设备，溅射，CVD设备）的所有要求。

2寸热舞台_800C

晶圆托盘_提起

◉半导体制造，薄膜的实验设备，RF / DC反溅射，PECVD，RIE等
◉用热台（800℃说明书→修饰以醉高1600℃）更换现有设备的加热机构
◉新工艺评价机器，样机，等

◉NiCr加热器
◉Inconel加热器
◉钨加热器
◉钼加热器
◉卤素灯加热器
◉石墨加热器
◉C / C复合加热器
◉各种涂层加热器（PG，PBN，SiC涂层，玻璃碳）

*工作温度和数据均为“陶瓷顶”・请参阅“加热器”。

热舞台结构

日本thermocera高温阶段“基板加热”1800℃

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