日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋转式清洗系统WULF系列
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日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋转式清洗系统WULF系列
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简单介绍
用于高清光掩模的旋转式清洗系统WULF系列清洗液在待清洗表面上高速扩散快速消除异物和反应产物无水印干燥日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋转式清洗系统WULF系列特征随着LSI性能的不断提高，光掩模版和掩模版需要具有更高的清晰度和更高的精度。 我们的清洁设备有助于提高这些产品的高清洁度和产量，我们合作生产更**的产品。该装置配备使用功能水的旋转清洗装置，通过工件旋转的离心力以及臭氧水和氨添加氢水
日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋转式清洗系统WULF系列 的详细介绍
用于高清光掩模的旋转式清洗系统
WULF系列
清洗液在待清洗表面上高速扩散
快速消除异物和反应产物
无水印干燥
日本AMYA天谷制作所 高清光掩模的旋转式清洗系统WULF系列
特征
随着LSI性能的不断提高，光掩模版和掩模版需要具有更高的清晰度和更高的精度。 我们的清洁设备有助于提高这些产品的高清洁度和产量，我们合作生产更**的产品。
该装置配备使用功能水的旋转清洗装置，通过工件旋转的离心力以及臭氧水和氨添加氢水的排放，可以去除有机物、金属离子和异物，*高可达检测限水平。 通过在清洗液之间切换，可以高速去除工件上的不纯沉积物，废液管理也是一种**环保的工具。
采用
清洗液和清洗方法替代RCA清洗液 SPM→臭氧水 ・实现完全室温清洗（无需高温处理） ・减少口罩
上的化学残留量 ・废液处理的**性（ISO14000措施）
SC-1 →氨掺杂氢水
・防止MoSi半色调掩模的蚀刻
性能
| PSM *终清洁（无 SPM） |
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| 类别 | 不。 | 项目 | 规范 |
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| 空白 | 1 | 无颗粒 | >32纳米 |
| 2 | 预% | ≧95% |
图像层
（图案侧） | 3 | QZ上的剩余软缺陷 | ≧0.05um （收益率 ： 98%） |
| 4 | 变速杆上剩余的软缺陷 | ≧0.05um， ≦10ea （产率 ： 98%） |
| 5 | SRAF （Dark） 缺失 | 不容错过 |
| 6 | 图案损坏、ESD、划痕 | 无损坏 |
| 7 | 换挡杆（相位） | ≦-0.2 度，平均洁净 10 倍 |
| 8 | 变速杆更换 （Trans.） | ≦0.025%，平均清洁 10 倍 |
| 9 | 换档杆（CD 平均值） | ≦0.15nm，平均10倍纯净 |
| 10 | 换档杆（CD 范围） | ≦0.5nm，平均10倍纯净 |
| 离子残留物 | 11 | 化学残留物 （SO4） | ≦0.5 ppb |
| 12 | 化学残留物 （NH4） | ≦17.0 ppb |
原理图规格
大小
| 清洗设备本体 | 7300mm（宽） x 1410mm（深） x 2300mm（高） |
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| 电源箱 | 1400mm（宽） x 500mm（深） x 2150mm（高） |
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| 化工盒 | 2500mm（宽） x 700mm（深） x 2000mm（高） |
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| 过滤盒 | 2600mm（宽） x 700mm（深） x 2000mm（高） |
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| HOT DIW 装置 | 1250mm（宽） x 550mm（深） x 1750mm（高） |
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| 氢水和碳酸水机组 | 1050mm（宽） x 1500mm（深） x 2000mm（高） |
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| 臭氧水机组 | 570mm（宽） x 850mm（深） x 2000mm（高） |
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| 效用 | - 三相 200 V， - 单相 100 V， - DIW， - 冷却水， - 清洁干燥的空气， - 氮气， - 一般排气， - 酸性废气， - 碱性废气 |
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