日本AMAYA天谷制作所 常压CVD半导体晶圆设备D501
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日本AMAYA天谷制作所 常压CVD半导体晶圆设备D501
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简单介绍
灵活的常压CVD系统，适用于小规模生产和开发D501型间歇式常压CVD系统，用于将多个晶圆装入一个大托盘中日本AMAYA天谷制作所 常压CVD半导体晶圆设备D501特征这是一种间歇式常压CVD系统，其中将多个晶圆装入一个大托盘中，托盘在分散头下来回移动以形成薄膜。可以处理不规则的基材。它具有紧凑的设备尺寸和较小的占用空间。性能涂层厚度均匀性取决于膜类型和厚度支持的晶圆尺寸符合可加热区气体种类SiH
日本AMAYA天谷制作所 常压CVD半导体晶圆设备D501 的详细介绍
灵活的常压CVD系统，适用于小规模生产和开发
D501型
日本AMAYA天谷制作所 常压CVD半导体晶圆设备D501
特征
性能
| 涂层厚度均匀性 | 取决于膜类型和厚度 |
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| 支持的晶圆尺寸 | 符合可加热区 |
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| 气体种类 | SiH4、O2、PH3、B2H6、N2（TEOS、TEB、TMOP、O3、TMA可选） |
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| 沉积温度 | 350°C~450°C |
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| 生产力 | - |
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主要技术指标
| 设备尺寸 | 1200mm（宽） x 2480mm（深） x 1940mm（高） |
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| 加热机制 | 电阻加热 |
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| 装卸 | 手动方式 |
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| 分散头（气体喷嘴） | A63 头 |
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