日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直径晶圆 半导体指定A6300S
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日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直径晶圆 半导体指定A6300S
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简单介绍
大型常压CVD系统，适用于6英寸以下的小直径晶圆空客A6300S6 英寸吞吐量，每小时 120 张使用SiC托盘防止重金属污染的对策日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直径晶圆 半导体指定A6300S特征针对小直径晶圆量产设备的需求，该连续常压CVD系统实现了每小时120片晶圆的吞吐量。该装置既能实现大规模生产，又能降低成本，同时还使用了为实现大范围的薄膜沉积区域而开发的分散头和限制托盘数量的运输系
日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直径晶圆 半导体指定A6300S 的详细介绍
大型常压CVD系统，适用于6英寸以下的小直径晶圆
空客A6300S
6 英寸吞吐量，每小时 120 张
使用SiC托盘防止重金属污染的对策
日本AMAYA天谷制作所 6英寸小直径晶圆 半导体指定A6300S
特征
针对小直径晶圆量产设备的需求，该连续常压CVD系统实现了每小时120片晶圆的吞吐量。
该装置既能实现大规模生产，又能降低成本，同时还使用了为实现大范围的薄膜沉积区域而开发的分散头和限制托盘数量的运输系统。
碳化硅托盘的使用使重金属污染难以发生。 此外，由于受热引起的老化很少，可以获得稳定的工艺性能。
标配自动托盘更换功能，确保工人**，减少维护时间。 此外，自动升高头底座的机制使其易于清洁。
性能
| 涂层厚度均匀性 | ≦±4.0% |
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| 支持的晶圆尺寸 | ≦6寸 |
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| 气体种类 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
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| 沉积温度 | 350°C~450°C |
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| 生产力 | 120 ppm。 |
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主要技术指标
| 设备尺寸 | 1500mm（宽） x 2850mm（深） x 2000mm（高） |
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| 加热机制 | 电阻加热 |
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| 装卸 | 机器人 CtoC 传输 |
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| 分散头（气体喷嘴） | A63 头（标配 2 头） |
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