日本AMAYA天谷制作所 半导体12英寸连续大气压CVD系统AMAX1200
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日本AMAYA天谷制作所 半导体12英寸连续大气压CVD系统AMAX1200
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简单介绍
12英寸连续大气压CVD系统AMAX120012 英寸吞吐量，每小时 51 张使用SiC托盘防止重金属污染的对策日本AMAYA天谷制作所 半导体12英寸连续大气压CVD系统AMAX1200特征这是传统AMAX系列中直径*大的晶圆加工设备，12英寸。从优化后在低温低压下产生热化学反应的A63型分散头，将SiH4、PH3、B2H6和O2分散混合后进行表面反应。 可获得优良的膜厚均匀性和杂质浓度均匀性。
日本AMAYA天谷制作所 半导体12英寸连续大气压CVD系统AMAX1200 的详细介绍
12英寸连续大气压CVD系统
AMAX1200
12 英寸吞吐量，每小时 51 张
使用SiC托盘防止重金属污染的对策
日本AMAYA天谷制作所 半导体12英寸连续大气压CVD系统AMAX1200
特征
这是传统AMAX系列中直径*大的晶圆加工设备，12英寸。
从优化后在低温低压下产生热化学反应的A63型分散头，将SiH4、PH3、B2H6和O2分散混合后进行表面反应。 可获得优良的膜厚均匀性和杂质浓度均匀性。
碳化硅托盘的使用使重金属污染难以发生。 此外，由于受热引起的老化很少，可以获得稳定的工艺性能。
标配自动托盘更换功能，确保工人**，减少维护时间。 此外，自动升高头底座的机制使其易于清洁。
性能
| 涂层厚度均匀性 | ≦±3.0% |
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| 支持的晶圆尺寸 | 12寸 |
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| 气体种类 | SiH4， O 2， PH3， B 2 H6， N 2 |
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| 沉积温度 | ~450°摄氏度 |
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| 生产力 | 51 张/小时 FOUP 兼容标准机器 |
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主要技术指标
| 设备尺寸 | 2165mm（宽） x 4788mm（深） x 2250mm（高） |
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| 加热机制 | 电阻加热 |
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| 装卸 | 机器人 CtoC 传输 |
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| 分散头（气体喷嘴） | A63 头（标准 3 头） |
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