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日本AMAYA株式会社天谷制作旋转式清洗设备

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产品名称: 日本AMAYA株式会社天谷制作旋转式清洗设备
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产品展商: 其它品牌
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简单介绍

日本AMAYA株式会社天谷制作高清光掩模兼容的旋转式清洗设备伍尔夫系列与高清光掩模兼容的旋转式清洗设备伍尔夫系列清洁溶液高速扩散到清洁表面快速消除异物和反应产物无水痕干燥特征随着LSI变得越来越复杂，光掩模/光罩需要更高的清晰度和准确性。 我们的清洗设备有助于这些产品的高清洁度和产量提高，并合作生产更完整的产品。配备使用功能水的旋转清洗单元，该单元可以通过工件旋转的离心力、臭氧水和添加氨的氢水排放


日本AMAYA株式会社天谷制作旋转式清洗设备  的详细介绍

日本AMAYA株式会社天谷制作

高清光掩模兼容的旋转式清洗设备伍尔夫系列


产品信息

与高清光掩模兼容的旋转式清洗设备

伍尔夫系列

  • 清洁溶液高速扩散到清洁表面

  • 快速消除异物和反应产物

  • 无水痕干燥

图片关键词

特征

  • 随着LSI变得越来越复杂，光掩模/光罩需要更高的清晰度和准确性。 我们的清洗设备有助于这些产品的高清洁度和产量提高，并合作生产更完整的产品。

  • 配备使用功能水的旋转清洗单元，该单元可以通过工件旋转的离心力、臭氧水和添加氨的氢水排放去除有机物、金属离子和异物，直至检测极限水平。 通过切换和清洁每个清洁溶液，可以高速去除工件上的不纯沉积物，废液管理也是一种**的环境响应工具。

  • 采用
    替代RCA清洗液的清洗液和清洗方法 SPM→臭氧水 ・实现完整的室温清洗（无需高温工艺） ・减少口罩
    上化学溶液的残留量
    ・更**的废液处理（ISO14000措施）


    SC-1 → 氢水加氨
    ・MoSi半色调掩膜的蚀刻预防

性能

PSM *终清洁（无 SPM）
类别不。项目规范
空白1无颗粒>32纳米
2预置%≧95%
图像层
（图案侧）		3QZ 上的剩余软缺陷≧0.05微米 （产率 ： 98%）
4移位器上剩余的软缺陷≧0.05微米， ≦10个 （产率 ： 98%）
5SRAF（深色）缺失没有遗漏
6图案损坏、静电放电、划痕无损坏
7换档器变化（相位）≦-0.2 度，平均清洁 10 倍
8换档器（变速器）≦0.025%，平均清洁 10 倍
9换档器（CD 平均值）≦0.15nm，平均清洁度为10倍
10换档器（CD 范围）≦0.5nm，平均清洁度为10倍
离子残基11化学残留物 （SO4）≦0.5 ppb
12化学残留物（NH4）≦17.0 ppb

原理图规格

图片关键词

大小

清洗装置本体7300毫米（宽） x 1410毫米（深） x 2300毫米（高）
电源箱1400毫米（宽） x 500毫米（深） x 2150毫米（高）
化学溶液盒2500毫米（宽） x 700毫米（深） x 2000毫米（高）
过滤器框2600毫米（宽） x 700毫米（深） x 2000毫米（高）
热滴机组1250毫米（宽） x 550毫米（深） x 1750毫米（高）
氢水和碳酸水装置1050毫米（宽） x 1500毫米（深） x 2000毫米（高）
臭氧水机组570毫米（宽） x 850毫米（深） x 2000毫米（高）
效用・三相200V、・单相100V、・DIW、・冷却水、・清洁干燥空气、・氮气、・一般排气、・酸性排气、・碱性排气


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