日本AMAYA株式会社天谷制作所柔性常压CVD设备D501系列
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日本AMAYA株式会社天谷制作所柔性常压CVD设备D501系列
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简单介绍
日本AMAYA株式会社天谷制作所用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备D501系列用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备D501系列用于将多个晶圆装入大托盘的间歇式常压CVD设备特征这是一种间歇式常压CVD系统，其中多个晶圆被装入一个大托盘中，托盘在分散头下往复运动以形成薄膜。它可用于变形的基材。它具有紧凑的仪器尺寸和较小的占地面积。性能均匀的薄膜厚度取决于薄膜类型和厚度支持的晶圆尺寸根据可加
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日本AMAYA株式会社天谷制作所
用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备D501系列
用于小规模生产和开发的柔性常压CVD设备
D501系列
特征
性能
| 均匀的薄膜厚度 | 取决于薄膜类型和厚度 |
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| 支持的晶圆尺寸 | 根据可加热区 |
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| 气体种类 | SiH4， O 2， PH 3， B 2 H6， N 2（TEOS， TEB， TMOP，O3， TMA 可选） |
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| 薄膜沉积温度 | 350°C~450°C |
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| 生产力 | - |
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主要规格
| 设备尺寸 | 1200毫米（宽） x 2480毫米（深） x 1940毫米（高） |
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| 加热机构 | 电阻加热 |
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| 装载卸载 | 手动方法 |
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| 分散头（气体喷嘴） | A63头 |
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