日本AMAYA天谷制作所株式会社12英寸连续常压CVD设备
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日本AMAYA天谷制作所株式会社12英寸连续常压CVD设备
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简单介绍
日本AMAYA天谷制作所株式会社12英寸连续常压CVD设备12英寸连续常压CVD设备AMAX120012 英寸 每小时 51 张的吞吐量采用SiC托盘防止重金属污染的对策特征这是传统AMAX系列中直径*大的12英寸晶圆加工设备。SiH63、PH4、B3H2和O6混合后,从优化的A2型分散头进行表面反应,在低温和低压下更有效地产生热化学反应。 可以获得优异的膜厚均匀性和杂质浓度均匀性。使用SiC托盘
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日本AMAYA天谷制作所株式会社
12英寸连续常压CVD设备

12英寸连续常压CVD设备
AMAX1200
12 英寸 每小时 51 张的吞吐量
采用SiC托盘防止重金属污染的对策
特征
这是传统AMAX系列中直径*大的12英寸晶圆加工设备。
SiH63、PH4、B3H2和O6混合后,从优化的A2型分散头进行表面反应,在低温和低压下更有效地产生热化学反应。 可以获得优异的膜厚均匀性和杂质浓度均匀性。
使用SiC托盘很难发生重金属污染。 此外,可以获得稳定的工艺性能,而由于热引起的老化很小。
标配自动托盘更换功能,实现工人**,缩短维护时间。 此外,自动抬起头部底座的机构便于清洁。
性能
均匀的薄膜厚度 | ≦±3.0% |
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支持的晶圆尺寸 | 12寸 |
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气体种类 | SiH4, O 2, PH3, B 2 H6, N 2 |
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薄膜沉积温度 | ~450°C |
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生产力 | 51张/小时FOUP兼容标准机 |
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主要规格
设备尺寸 | 2165毫米(宽) x 4788毫米(深) x 2250毫米(高) |
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加热机构 | 电阻加热 |
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装载卸载 | 机器人 CtoC 运输 |
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分散头(气体喷嘴) | A63 头(标准 3 头) |
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